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直流電弧用發(fā)射光譜儀采用直流電弧作激發(fā)光源
點擊次數(shù):2591 更新時間:2021-08-19
  直流電弧用發(fā)射光譜儀與火花源光電直讀光譜儀在結(jié)構(gòu)上的主要區(qū)別是光源的不同,它采用直流電弧作激發(fā)光源。
 
  直流電弧發(fā)射光譜儀所用的直流電弧光源,直流電弧光譜儀的電弧激發(fā)座基于人性化設計,上電極可方便地進行旋轉(zhuǎn)移位,以便進行樣品電極的更換,將新的樣品電極從頂端或底端插入,并自動進行精確定位。
 
  新的激發(fā)座采用最新的穩(wěn)流電源用于提升激發(fā)穩(wěn)定性,另外斯托伍德氣室可用于降低CN鍵產(chǎn)生的光譜干擾。
 
  直流電弧用發(fā)射光譜儀相比于傳統(tǒng)的基于照相版技術(shù)的直流電弧光譜儀,在儀器性能和分析速度上均有一個質(zhì)的飛躍。直流電弧電流可控,可進行實時背景校正,實時內(nèi)標校正。
 
  儀器具有全譜讀取功能,提供定性定量分析,可實現(xiàn)譜圖疊加和差減。可對復雜樣品進行直接分析,而無需樣品消解過程,這些樣品諸如:陶瓷和玻璃,金屬氧化物、碳化物、硼化物以及氮化物,難溶粉末如SiC,貴金屬及其它高純金屬,石墨粉末,地質(zhì)原料,核原料-氧化鈾、氧化钚,土壤、淤泥、煤灰,油漆等。
 
  儀器具有很高的靈敏度,通常對于固體材料的檢出限為亞ppm級,非常適合高純銅,鎳以及貴金屬等的研究,實現(xiàn)高純金屬分析。
 
  接下來讓我們再來了解一下直流電弧用發(fā)射光譜儀有哪些安裝條件吧。
 
  ①實驗室內(nèi)的環(huán)境溫度要控制在10-30℃,相對濕度控制在20%-80%,確保無腐蝕性氣體。
 
 ?、跉鍤獾墓┙o純度要達到99.999%以上,不純氬氣中雜質(zhì)影響激發(fā)效果,降低元素的光強值,分析結(jié)果出現(xiàn)偏差。
 
 ?、圯斎雽嶒炇业碾娫匆釉诮涣鞣€(wěn)壓器上,輸出電壓接到直讀光譜儀器上,電源電壓波動范圍控制在-5%~+5%以內(nèi)。
 
  做好樣品分析準備。 設備和PC電源電壓選擇開關(guān)要設置適當?shù)妮斎腚妷?,過濾量要在三分之一,氬氣壓力設置為0.5MPa。光譜儀打開后少穩(wěn)定一個小時。激發(fā)試樣看激發(fā)點是否正常,做程序修正,觀察數(shù)據(jù)穩(wěn)定性和準確性。根據(jù)情況決定是不是要做光譜校正和標準化。
 
  正確進行樣品分析。
 
  認真制備試樣 樣品切割和磨樣處理后,激發(fā)面能密封住激發(fā)孔,樣品表面清潔,無裂紋、砂眼、氣孔等缺陷,樣品和激發(fā)板不能漏氣。
 
  激發(fā)樣品 樣品制備好后在激發(fā)臺激發(fā)3次,異常點,留三組數(shù)據(jù)取平均值。

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